6,坚膜
坚膜也叫后烘,是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象,负性光刻胶报价,能使胶膜附着能力增强,康腐蚀能力提高。坚膜温度通常情况高于前烘和曝光后烘烤的温度 100-140度 10-30min,7,显影检验,光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准不良、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡,针KONG、小岛。
8刻蚀
就是将涂胶前所垫基的薄膜中没有被光刻胶覆盖和保护的那部分进行腐蚀掉,达到将光刻胶上的图形转移到下层材料的目的。湿法刻蚀,SIO2,AL, Poly-Si 等薄膜,干法腐蚀。
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,负性光刻胶,NR9i-3000PY有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。
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正性光刻胶的金属剥离技术
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