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操作过程时留意不可以将危害残渣带进解决液中，亚铁离子会使快速溶解。氯离子含量会在铜表面上造成钝化处理的氯化铜膜，使粗化铜的速率明显减少。因此 在操作过程时严禁应用铁挂具。面板
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i准时剖析和加上的成分。在其中碘离子和盐酸的浓度值要一星期检验一次，则要每日剖析。增稠剂的量是根据的溶解速率来加上。面板
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面板镀铬是泛指电镀铬，镀铬有两种的，一种是装饰铬，面板价格，一种是硬铬。镀硬铬是比较好的一种增加表面硬度的方法，无锡面板，但它也是有优缺点的，面板定制，那么精密蚀刻工艺后镀铬又有哪些优缺点呢？ 蚀刻工艺后镀铬有哪些优缺点？ 蚀刻工艺后镀铬的优点： 一、表面光洁度好。 二、不会生锈，一点锈斑都不会有。 三、镀的过程中原零件变形小。 四、如果蚀刻零件尺寸不到位，可以通过加几丝铬来达到尺寸(这是优点，也是个缺点，所以要镀铬的零件都要放余量了)。 五、表面比较美观。 蚀刻工艺后镀铬缺点： 一、价格高，不光镀的费用高，而且镀后还要再加工。 二、不适合表面比较复杂的零件。 三、厚度太薄，一般只有0.05-0.15mm左右。 四、对蚀刻零件表面的光洁度要求比较高。
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将一价铜由5000ppm降至50ppm，蚀刻速度即提升 一倍之上。
因为在蚀刻反映的全过程中会转化成很多的一价碘离子，而一价碘离子又一直与氨的络合作用基牢牢地的融合在一起﹐因此 要维持其成分近于零是十分困难的。面板
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在有关的有机化学蚀刻(亦称作光化学反应蚀刻或PCH)行业中﹐科学研究工作中早已逐渐﹐并达至蚀刻机总体设计的环节。此方式 所应用的溶液为二价铜，并不是氨-铜蚀刻，它将有可能被用在印刷电路板工业生产中。在PCH工业生产中，蚀刻铜泊的典型性薄厚为5到10密耳(mils)，有一些状况下薄厚却非常大。面板
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