小型真空镀膜设备-鼎益科技，鼎益真空-莱芜真空镀膜设备

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鼎益真空科技：磁控溅射镀膜机设备型号:磁控溅射真空镀膜设备磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。该系列设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，真空镀膜设备维修，如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料，莱芜真空镀膜设备，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。设备主要参数真空室尺寸:Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm  、 Φ2000mm真空系统:旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选分子泵、深冷泵、深冷系统)极限真空:6x10-4Pa工作转动方式多轴行星式公自转、变频调速（可控可调）冷却方式水冷却循环方式，另配工业冷却水塔或工业冷水机（制冷机）或深冷系统。（客户提供）控制方式PLC+触摸屏操作或计算机控制，手动、半自动、自动方式供给指标气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa报警及保护对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警、并执行相应保护措施及电气联锁功能抽气时间::空载大气抽至5x10-3Pa，>13min备注：以上设备参数仅做参考，具体均按客户实际工艺要求设计定做 应用展示：

PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，真空镀膜设备保养，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，小型真空镀膜设备，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。

      五、PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀和工具镀。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)等产品中

此类的传统工艺方式为在镀膜机里完成镀金属材料工序，再进行装夹在UV喷涂线上，喷上面油进行UV固化形成透明保护作用。技术参数表：TYG系列卧式电阻蒸发真空镀膜机型号TYG-1200TYG-1400TYG-1500TYG-1600TYG-1800TYG-2000TYG-2200真空室尺寸 Φ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1600MMΦ1600×1800MMΦ1800×2000MMΦ2000×2200MMΦ2200×2400MM真空机组KT630扩散泵机组双KT6300扩散泵机组双KT630扩散泵机组双KT630扩散泵机组双KT800扩散泵机组双KT1000扩散泵机组双KT1000扩散泵机组镀膜系统电阻蒸发源、硅油汽化装置镀膜辅助系统低温离子镀膜电源充气系统进口流量比例调节阀控制方式手动或全自动抽气速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min极限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa备注以上设备参数仅做参考，具体均按客户实际工艺要求设计订做

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