手机壳LOGO曝光显影生产厂家-利成感光

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，手机壳LOGO曝光显影生产厂家，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打样。

曝光显影：感光特性曲线特性曲线是指以感光胶片在感光仪中按规定的递增曝光量进行曝光，然后经显影、定影后，所得胶片的密度值(D)为纵坐标，手机壳LOGO曝光显影哪家好，以曝光量的对数值(logH)为横坐标，绘制成的曲线。

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曝光显影

曝光时对应菲林黑色部分的金属材料不感光，对应菲林白色处的金属材料感光，感光处的油墨或干膜发生聚合反应。后经过显影机，手机壳LOGO曝光显影，金属材料上被感光的油墨或干膜就不会在显影液中被融化，而未感光的油墨或干膜在显影中会融化然后脱墨，手机壳LOGO曝光显影加工厂，这样需要蚀刻的图像就会在金属材料上成形。

－微影技术

微影技术透过紫外光当光源，将绘制在光罩上的电路图形微缩投影至涂布光阻的利成上，再经过曝光显影蚀刻去除光阻等过程，在利成产生集成电路。随着制程微缩线宽缩小，光罩也变得更为精细，光源波长也需变短，以避免绕射效应产生。

过去紫外光波长一路从365nm进展到目前以ArF气体雷射达到193nm，ArF 193nm曝光机原理上可制作的小线宽为48nm，加上浸润式微影与多重曝光的搭配，众利成代工厂的制程辛苦走到7nm节点，采用多重曝光技术仅能做单一方向微缩，无法做2个方向的微缩，影响单位面积下所能容纳的晶体管数量，加以所需光罩数与制程数大幅增加，以往随着制程微缩，每芯片成本随之下降情况已不复见。