感光材料中未见光部分，在显影后往往也会出现一定程度的致黑现象，这就是灰雾。使用抑制剂的主要目的是抑制灰雾的产生。显影液中常加入化钾作为，又称防灰雾剂。灰雾形成的原因很多，拉丝面曝光显影工艺，有些是在乳剂制备过程中产生的，桐乡拉丝面曝光显影，也有些是因包装或应用过程中意外露光而产生的。
化钾能抑制灰雾的原因主要有两个方面：
化钾在溶液中电离： 根据“胶粒总是选择吸附与其组成相类似离子”的原则，拉丝面曝光显影报价，离子比显影剂负离子优先吸附在化银晶体表面，形成一个起障碍作用的负电层，这就阻止了带负电荷的显影剂离子接近卤化银的表面，从而防止了未曝光的卤化银
显影状态的维持
A、有无过滤器，保证显影液的干净；
B。有无自动保胶及保护胶的自动清洗系统；
C、有无防氧化盖（金属盖散热快，塑料盖散热慢）
测试步骤
设置曝光程序，生成测试图形阵列。要求每一列对应不同DOSE，每一行对应不同FOCUS.曝光生产测试版，并进行显影、蚀刻和去胶处理。测量测试版上阵列中每个点的CD.分析测量数据。
Coll imated Light平行光以感光法进行影像转移时，为减少底片与板面间，在图案上的变形走样起见，应采用平行光进行曝光制程。这种平行光是经由多次反射折射，而得到低热量且近似平行的光源，称为Coll imated Light，拉丝面曝光显影定制，为细线路制作必须的设备。由于垂直于板面的平行光，对板面或环境中的少许灰尘都非常敏感，常会忠实的表现在折晒出的影像上，造成许多额外的缺点，反不如一般散射或漫射光源能够自相互补而消弥，故采用平行光时，必须还要无尘室的配合才行。此时底片与待曝光的板面之间，已无需再做抽真空的密接（Close Contact），而可直接使用较轻松的Soft ContactOff Contact 7.
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