当液温达到21℃以上时，定影液中一般要加入坚膜剂，以防止乳剂层被破坏。坚膜剂有：钾钡[A12 (S04) 3K2S04:24H20]、铬矾[Cr2 (S04)3K2S04-24H20]和甲醛（HCHO) 。甲醛的坚膜作用强，铬矾次之，钾矾的作用较弱。采用时应根据液温情况选用，通常使用钾矾和铭矾。因甲醛有毒，只有特殊情况才采用它。
当定影完毕后，总要用干净的水冲洗净胶片上余存的定影液。水洗的目的是要影像膜层内所含的硫酸钠及其它可溶性盐。如果水洗不则残存的硫酸钠日久分解出硫而使底片变黄。通常水洗时间在流水盆内不少于半小时。水洗完毕，可将底片悬挂在无尘处晾干或风干，严禁用烘烤的办法使其脱水，以免引起胶片变形。
在曝光显影工艺中，只有对以上各种公差配合完全掌握，才能简单可靠的做出合格产品。
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；
2、图形转印技术单层、多层套印精度高；
3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，保温杯曝光显影设计，降低油墨厚度；
4、采用图形转印技术，良率较高；
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；
6、较薄的油墨利于贴合，保温杯曝光显影，提高制程整体良率
“曝光显影工艺就是我们常说的黄光工艺，这种曝光工艺其实是很成熟的，它应用在PCB行业、半导体行业、甚至显示面板行业，但这种工艺应用到现在的3D玻璃盖板工艺的时间并不长。这种工艺的优点是曝光的精度高，它的良率高。”
虽然如此，但是PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，保温杯曝光显影厂，曝光是没有距离的，保温杯曝光显影加工，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。
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