纳米涂层低凸的表面可以吸附周围的气体分子，形成一层稳定的薄膜气垫，汽车纳米涂层，避免了PCB表面及元器件管脚金属材料与水分子的直接接触。在PCB表面形成极细微的网状膜层，有效降低线路板及电子元器件表面能，使沉积在PCB表面的水滴接触角趋于大值，PCB表面呈现出较强的超疏水性能。
这种防水的功能性涂层能使手机等电子产品表面层具有极强的疏水、憎水、防水效果，物体表面上的水珠犹如在荷叶上一样滚落，类似荷叶效应，使附着在物体表面的污垢，尘土随着水珠重力快速滑落，带走玻璃表面的尘土和大部份污垢，不留水痕迹，达到了双重自洁净的效果。
原子层沉积（ALD）是一种沉积原子级薄膜的技术，陆丰纳米涂层，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术相比，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金属等）。
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金属，钻石纳米涂层，碳化物，复合结构，硫化物，纳米薄层等。 中空纳米管，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（MEMS）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，防水纳米涂层，纳米晶体，ZnSe涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。
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