










该装置由汽化炉、分解炉、重合室这3个部分组成,在重合室中放置对象物品,在汽化炉中放置Parylene (粉体)。
在装置内进行减压操作后,五金真空镀膜,升高汽化炉的温度(120~180℃),使Parylene升华。 通过真空泵将该气体引导至蒸汽粘合室,真空镀膜涂料,通过高温(650~700℃)分解炉后,生成热分解单体。该单体在室温状态下的重合室内与对象物品相接触,其含有的热量被传导后在对象物品的表面进行聚合,形成高分子量的聚对二树脂膜。

原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。气相物质在基体材料的表面吸附特征可以看出,台山真空镀膜,任何气相物质在材料表面都可以进行物理吸附,但是要实现在材料表面的化学吸附必须具有一定的活化能,因此能否实现原子层沉积,选择合适的反应前驱体物质是很重要的。

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