菱威派瑞林镀膜厂家-音响板派瑞林镀膜oem

       派瑞林涂层薄膜的止回阀。微阀具有扭曲型的派瑞林涂层膜， 当有流体顺流时， 派瑞林涂层薄膜抬起， 允许流体通过; 当有流体逆时，派瑞林涂层薄膜封住了通道阻止其流动。该结构的微阀顺流冲破压力小于0. 5 kPa， 逆流的制止压力达600 kPa以上， 同时具有较低的反向泄漏， 性能非常好。由于派瑞林涂层较小的杨氏模量， 产生了较大的变形，音响板派瑞林镀膜供应商， 基本可以忽略由薄膜引起的流体阻抗。单通道常闭微止回阀， 整个微阀和微通道都是由派瑞林涂层 C制成的， 其结构为在圆形阀座上的一个圆形的密封板。密封板是固定在子腔薄膜的顶部中心， 由于大气压强使子腔压缩到底部， 从而获得微阀的闭合模式。这种新型的子腔结构是通过没有层结构的释放和在真空条件下派瑞林涂层薄膜的气相沉积来实现的。通过减小密封板和阀座的重叠面积和溅射金属金来减小静摩擦力， 从而减小顺流冲破压力。此种结构的微阀的顺流冲破压力为20～40 kPa， 在逆流压力为270 kPa也不会出现可见的泄露现象。

       该装置由汽化炉、分解炉、重合室这3个部分组成，在重合室中放置对象物品，在汽化炉中放置Parylene (粉体)。

       在装置内进行减压操作后，升高汽化炉的温度（120~180℃），使Parylene升华。 通过真空泵将该气体引导至蒸汽粘合室，通过高温（650~700℃）分解炉后，生成热分解单体。该单体在室温状态下的重合室内与对象物品相接触，其含有的热量被传导后在对象物品的表面进行聚合，形成高分子量的聚对二树脂膜。

       原子层沉积（ALD）是一种沉积原子级薄膜的技术，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术相比，音响板派瑞林镀膜处理，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，汕头音响板派瑞林镀膜，样品表面上没有物理和电学损伤，而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，音响板派瑞林镀膜oem，氟化物，氮化物，金属等）。

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