LPE的硅外延层，以其良好的电学、光学及其生长特性，而在CVD无法胜任的领域应用前景诱人.目前，取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1] .场控制器件：CVD在硅器件的埋结制造中，因自掺杂而出现埋层尺寸增加，1260液相设备厂家，密排栅极叉指制造也受到严重影响，而LPE因其可以消除自掺杂，1260液相设备，而在这方面得到应用，尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造，其优点更为明显 [1] .
①高压：流动相为液体，流经色谱柱时，受到的阻力较大，为了能迅速通过色谱柱，必须对载液加高压。②高速：分析速度快、载液流速快，1260液相设备好不好，较经典液体色谱法速度快得多，通常分析一个样品在15～30分钟，有些样品甚至在5分钟内即可完成，一般小于1小时。③：分离效能高。可选择固定相和流动相以达到分离效果，比工业精馏塔和气相色谱的分离效能高出许多倍。
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