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磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,

不同烧结温度下,通过铁基结合剂胎体对金刚石的把持力系数的变化可以看出:未镀和镀钛金刚石的把持力系数随烧结温度的升高有相同的变化规律,在730 °C 时把持力系数。在不同的烧结温度下,镀钛金刚石节块的把持力系数均高于未镀的,说明金刚石表面镀钛后,胎体对金刚石的把持能力提高,即胎体与金刚石间的结合强度增加。此外,把持力系数与烧结温度之间没有线性关系。

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