与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度：典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间，但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量，处理镀钛加工报价，PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，商丘镀钛加工报价，利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒，影响薄膜质量
利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
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