在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，处理镀钛厂家选哪家，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。
PVD (Physical Vapor Deition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ，处理镀钛厂家电话，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，处理镀钛厂家报价，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，濮阳处理镀钛厂家，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
电子束蒸发镀膜
利用高速电子束加热使材料汽化蒸发，在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2，可达到3000℃以上，可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。
电子束加热的蒸镀源有直型电子和e型电子两种(也有环行)，电子束自源发出，用磁场线圈使电子束聚焦和偏转，对膜料进行轰击和加热。
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