离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，真空镀钛厂家公司，同时产生许多高能量的中性原子，商丘镀钛厂家公司，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
九、离子镀的工艺过程：蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。
在靶材和衬底之间加上一个直流高压，极板间的气体（一般为Ar2）电离，金属镀钛厂家公司，高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电，在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下，放电气压一般高达10帕，这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此，直流溅射多采用非自持放电，也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射，可使溅射在10-1～10-2帕的低气压下进行。
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