








离子镀技术早由D. M. Mattox于1963年提出并付诸实践的。其原理是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质离化,曹县金属表面镀钛厂家,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,金属表面镀钛厂家公司,把蒸发物或其他反应物镀在基片上的工艺。
根据膜层粒子的获得方式,离子镀可分为蒸发型离子镀和溅射型离子镀,其中蒸发型离子镀根据放电原理不同又可分为直流二级型离子镀、热丝弧离子镀、空心阴极离子镀以及热阴极离子镀等。

直流二级离子镀,是稳定的辉光放电;空心阴极离子镀与热丝弧离子镀,是热弧光放电,产生电子的原因均可简单概括为金属材料由于被加热到很高的温度,导致核外电子的热发射;阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种离子镀的放电类型均不相同,它采用的是冷弧光放电。在众多离子镀膜技术中阴极电弧离子镀可谓是其中的集大成者,其目前已经逐步发展为硬质薄膜领域的主力。

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