








蒸发镀膜过程中,从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动,镀钛加工价格,直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内,当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时,这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行,否则,就会产生碰撞而改变运动方向。为此,增加残余气体的平均自由程,以减少其与蒸发粒子的碰撞几率,把真空室内抽成高真空是必要的。当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时,就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L,并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程,处理镀钛加工价格,λ为气体分子的平均自由程,设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0,在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1,而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射,则有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次数用完API KEY 超过次数限制

因此,如果要防止蒸发粒子的大量散射,在真空蒸发镀膜设备中,真空镀膜室的起始真空度必须高于10-2Pa。由于残余气体在蒸镀过程中对膜层的影响很大,因此分析真空室内残余气体的来源,借以消除残余气体对薄膜质量的影响是重要的。真空室中残余气体分子的来源主要是真空镀膜室内表面上的解吸放气、蒸发源释放的气体、抽气系统的返流以及设备的漏气等原因所造成的。若镀膜设备的结构设计及制造良好,则真空抽气系统的返流及设备的漏气并不会造成严重的影响。 次数用完API KEY 超过次数限制

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