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喷淋式兆声喷头

单点喷淋式兆声清洗，无二次污染问题超高频超声波，半导体晶圆清洗价格，频率可达3MHz清洗精度高，可去除0.2微米的污渍颗粒超低的声空化效应，不损伤器件表面无金属材质接触液体，无导电物质脱落风险腐性，半导体晶圆清洗哪家好，可耐各种酸碱溶液及。

喷淋式兆声喷头是将兆声换能器嵌入到喷嘴中，以喷嘴的形式对被清洗物如晶圆等进行清洗。它的优势在于可点对点的直接对被清洗物表面进行处理，可让声能焦点直接处于被清洗物表面，然后再通过运动来实现整个二维平面的清洗。这种方式相比于槽式兆声清洗，半导体晶圆清洗多少钱，其兆声转换效率更高，并且避免了槽式兆声清洗中声场强度随水槽液体深度变化而变化的问题，使被清洗物如晶圆表面获得的声能更均匀。另外，由于是喷嘴喷淋的方式，也不会发生像槽式清洗中水槽中的残留的脏污对被清洗物造成二次污染的问题。

超声波清洗历史发展

技术早出现于20世纪30年代早期，当时，位于美国新泽西州的美国无线电公司的一个实验室中的技术人员尝试用自制的简陋超声波清洗系统清洗某些物体，但试验未获成功。在此基础上，超声波清洗技术在20世纪50年代有了很大的发展，当时使用的超声波工作频率在20～ 40 kHz之间。该范围内的超声波被应用在数千种不同的工作场合下，其中许多是别的清洗手段不能很好发挥作用的场合。超声波可以对工件施加非常巨大的能量，尤其适用于清除牢固地附着在基底上的污垢。然而在某些情况下，超声波强大的能量也会损伤粘有污垢而性质脆弱的基底材料。在过去的十几年中，超声波领域中出现了一些技术革新，提高了清除敏感基底上的污物的安全系数。在此期间，超声波技术，特别是中高频超声波清洗技术有了新的发展，并成为行业的亮点。近年来，人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同，把40 kHz及其以下的称为常规或低频超声波，把1 000 kHz以上的称为高频超声波，又称兆频超声波，简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒，并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。

贴合式兆声清洗

头贴近被清洗物，清洗效率更大程度减少清洗液使用量清洗精度高，可去除0.2微米的污渍颗粒超低的声空化效应，山西半导体晶圆清洗，不损伤器件表面石英或蓝宝石耦合技术，无杂质脱落风险腐性，可耐各种酸碱溶液及。

兆声清洗利用兆赫兹级别的超高频超声波能量推动基材表面亚微米级颗粒的去除以及化学反应。相比于低频超声波空化效应，兆声波空化效应可清除更小的颗粒并且大幅降低对基材的损伤。