基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时，镀钛多少钱，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下，镀钛服务电话，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，单县镀钛，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.
与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度：典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间，但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量，PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
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金属表面处理PVD镀钛特点：增寿、增硬、增值，并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等的使用性能广泛应用于模具工业中。
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