科鲁斯特测控科技-泰州二手1200液相设备

实现晶体的外延生长。这种技术可以生长Si、GaAs、GaAlAs、GaP等半导体材料以及石榴石等磁性材料的单晶层，用以做成各种光电子器件、微波器件、磁泡器件和半导体激光器等 [1]  。液相外延由尼尔松于1963年发明，成为化合物半导体单晶薄层的主要生长方法，被广泛的用于电子器件的生产上。薄层材料和衬底材料相同的称为同质外延，反之称为异质外延。液相外延可分为倾斜法、垂直法和滑舟法三种。

Agilent1200 自动进样器可进行编程进样，用于进行柱前衍生，二手1200液相设备价格，柱前样品自动稀释，自

动混合等复杂进样方式。此外，用户可根据样品的粘度，调节取样及进样速度。

Agilent1200 自动进样器均采用深色避光盖板，便于光敏感样品的长时间放置；同时进

样器内安装有照明装置，泰州二手1200液相设备，便于用户操作。

进样范围：0.1~100μL，增量为 0.1μL；安装多次进样组件，二手1200液相设备怎么用，大进样体积可达 1500μL

进样精度：< 0.25% RSD（进样体积 5~100μL）

          < 1% RSD （进样体积 1~5μL）

1 标准自动进样器（G1329A）

品容量：1个100位样品盘，每个样品盘可放置100个2-mL样品瓶

2个 40位样品盘，每个样品盘可放置 40个2-mL样品瓶

2 个 15 位样品盘，每个样品盘可放置 15 个 6-mL 样品瓶

样品残留：<0.05%（启动洗针程序）

重复进样次数：1~99 次/样品

大操作压力：400bar

3.2.2 能自动进样器（G1367B/C）

样品容量：2 块多孔板（96 孔板和/或 384 孔板）+ 10 个 2-mL 样品瓶

1 个 100 位样品盘，每个样品盘可放置 100 个 2-mL 样品瓶

2 个 40 位样品盘，每个样品盘可放置 40 个 2-mL 样品瓶

样品残留：<0.01%

大操作压力：400bar（G1367B）；600bar（G1367C）

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