净化工程技术对半导体和集成电路生产的意义:
半导体材料的提纯是半导体器件发展的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求,超净工作台型号,为了获得高纯度的硅材料,原料和中间介质的高纯度以及生产环境的洁净度成为影响产品质量的突出问题。IC芯片的良率与芯片的缺陷密度有关,无菌超净工作台,芯片的缺陷密度与空气中的颗粒数有关。因此,随着集成电路的快速发展,不仅要控制空气中粒子的大小,还要进一步控制粒子的数量。
障碍物会使单向流变成湍流,从而在障碍物周围形成气团。 人类的运动也会使单向流动产生湍流。在这些湍流中,由于风速较低,空气的稀释程度较低,超净工作台,导致污染浓度较高。因此,净化工程风速必须保持在0.3m/s~0.5m/s(60ft/min~100ft/min)的范围内,以便中断的单向流能够迅速恢复,并充分稀释障碍物周围湍流区的污染。单向流可以用风速来正确表示,因为风速越高,房间越干净。而每小时换空气的次数与房间的容积有关,比如吊顶的高度,所以不适合单向流动。单向室的空气体积是紊流室的许多倍(10到100倍)。
净化工程技术对精密机械和精细化工的意义:
随着科学技术的发展,许多工业产品的生产加工对生产环境中的粉尘浓度提出了极高的要求,要求生产环境具有一定水平的洁净空气,超净工作台原理,控制生产过程中所需的各种相关物质的供应质量。比如在胶片制作中,如果胶片被灰尘污染,感光乳剂就会被氧化,活性减弱,pH值发生变化,从而影响胶片的感光性能。
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