传统金属表面处理方式往往需要借助各种设备，从机械切削、化学腐蚀到电化学处理等，过程繁琐，效率低下，且易产生环境污染。而近年来兴起的等离子抛光技术革新了金属表面处理方式，可以快速、地抛光金属表面，使其变得光滑，亮丽，达到理想的质感。等离子抛光技术是指利用离子放电原理，通过高能量的放电通道来抛光材料表面，从而实现金属表面微观整平。相比传统处理方式，等离子抛光技术适用于多种以上的金属材质，一台设备即可完成多种材质产品的抛光处理，省去了企业高昂的购机成本。此外，等离子抛光技术效率极高，一分钟即可抛光100多件产品，抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度(RMS)可达0.01微米，生产效率得到大幅提升。
等离子抛光的原理
在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。
等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一，可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，实现表面微观整平。抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，使得放电通道更多选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长，粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术，为提高产品质量提供了强有力的保障。
