




化学镀镍工艺,是以次磷酸盐为还原剂,提供镍离子,次磷酸钠的还原性比较强,能够在电镀过程中提供镍离子所需要的电子。
化学镀镍中,为避免次磷酸镍沉淀的形成,会使用乙醇酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸、琥珀酸等络合剂,络合剂能够与镍离子结合成复杂的络合离子。
化学镍废水主要来源是化学镍电镀液的清洗水,化学镍水,化学镍电镀液中存在络合剂以及次磷酸钠,因此化学镍废水的主要构成是次磷酸和络合镍,对应电镀废水处理指标中的镍含量以及磷含量。
对于络合镍,由于络合剂与镍离子能够稳定结合,加碱沉淀无法将镍离子完全去除,故采用除镍剂HMC-M2,能够与任何形态的镍离子生成不溶于水的螯合沉淀,将废水中的总镍含量处理至0.1mg/L以下。

化学镍电镀的镍离子废液处理化学镍电镀废液中,若不存在络合剂或络合剂的量较少时,可直接采用(浓度为6mol/L)调节pH值,
根据废液中镍离子的浓度,加入适量的NaOH,使镍离子沉淀为Ni(OH)2除去。对于有络和剂废液的除镍,首先利用CaO调节废液的pH值在8左右,除去大部分的有机酸络合剂,然后在废液中加入CaO或NaOH,调至废液的pH值为11~12,使废液中的大部分镍离子和其他重金属离子发生沉淀反应,再加入适量的高分子絮凝剂,加速不溶物的沉降,在沉降过程中,加入适宜和适量的氧化剂(高、或等),以除去废液中的次、亚磷酸盐,化学镍,有利于镍离子的沉淀并降低废水的化学耗氧量(COD)。

化学镀镍工艺特点
循环寿命长,化学电镀镍,可达8-10个循环(Metal Turn Over),[循环含义为每升镀液将全部镍镀出再补加到开缸时的镍含量称为一个循环,一个循环少可沉积镀层900dm2·μm];
镀速可达20-22μm/h;深镀能力强、均镀能力强,完全达到“仿型效果”;硬度高、耐腐蚀能力强;
镀层孔隙率低,化学镍电镀,10μm无孔隙;
耐磨性好,优于电镀铬;
可焊性好,能够被焊料所润湿;
电磁屏蔽性能好,可用于电子元件及计算机硬盘;
镀层为非晶态,非磁性Ni-P合金

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