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x射线发生装置-涂层应用

现代生活的每个环节都得益于涂层或薄膜技术。无论是集成电路芯片上的阻挡层薄膜还是铝制饮料罐上的涂层，X射线是研发，产品过程控制和不可缺少的分析技术。作为纳米技术研究，X射线衍射(XRD)和附属技术被用于确定薄膜分子结构的性质。理学的技术和经验为涂层和薄膜测量提供各种无损分析解决方案。

x射线发生装置用途

1、科学研究和发展材料，x射线发生装置，这项工作涉及研究各种物质的特性和使用，如金属，陶瓷和塑料，应用范围从空间科学和科技到消费类产品。X射线衍射（XRD）是研究材料的主要技术，包括下列功能：相的识别和定量，相的结晶度判定，晶体结构，x射线发生装置报价，晶体取向和织构，x射线发生装置多少钱，极图等。这些功能的非环境条件影响也同XRD技术一起经常研究。搜索可针对各种样品类型，从粉末到各种形状和尺寸的固体材料，液体和半导体晶片。

2、地质，矿产和在研究行星进程和地球构造过程中，地理学家们需要分析岩石和矿物样品的组成。分析技术如：小点激发，分布分析和无标定量分析，日渐成为地质研究及矿物学研究领域内的主要仪器。

x射线发生装置结构

主要包括三部分：X射线光管、测角仪和检测器。采用应用广泛的Cu靶作为X射线源，配备PIXcel高能检测器，此检测器为固态探测器由65000个像素组成，每个像素的尺寸为55×55微米，每个像素都有独立电路，具有快速读出时间和较高的动态范围：每像素行每秒超过1300万次计数。此外仪器光路系统配备索拉狭缝、防散射狭缝、面罩、单色器等，以使X射线源发射X射线光以单色光源照射样品，而样品产生的衍射光以平行光束达到检测器。