抛光液的温度越低，材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为:温度越低，抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多，相同条件下生成的气体越少，包围在零件周围的混合气体层越薄，而在压强和电压不变的情况下，气体变薄就意味着电场强度增大，导致碰撞电离系数显著增大，虽然总的碰撞距离减小，但仍然有更多的电子冲击到工件表面，材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下，混合气体层较薄，也意味着气体层不太稳定，等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大，同时气体层薄也意味着系统的电阻减小，电流增大，且电流值大幅度变化，常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象，这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。
等离子纳米抛光是什么？
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光技术是一种全新的表面处理技术，与传统的机械抛光和化学抛光相比，具有更高的效率、更高的精度和更低的污染性。它可以通过创新的处理方法和设备，实现更加复杂的表面处理效果，为材料加工和制造业的发展带来新的机遇和挑战。等离子技术可以在真空或者惰性气体环境下进行表面处理，避免了空气中的氧化和污染，同时还可以实现对材料表面的透明处理。它可以去除表面的氧化层和污染物，同时保持材料表面的透明性和光泽度，为光学和电子材料的制造提供了新的解决方案。
