通风等离子抛光的成本主要体现在用水、用电、挂具损耗和抛光盐损耗上面，铜等离子抛光、抛光时间长短和工件自身大小直接决定成本高低：抛光时间长、抛光效果一定好、但通电时间也会延长、耗电量相增加、挂具因为延长时间也会增加损耗、抛光盐也会因为时间延长失效也会提前、在用水上面也会增加，在这些成本中电费成本是成本。综上所述铜等离子抛光成本要控制到合理的方法是只要的达到要求、抛光时间，考虑到成本还可以结合手抛光或者机械抛光做铜等离子抛光的预处理、把抛光去除量多的交给预处理完成、这样省时省力才能把成本做到。
等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平？
等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平，利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，则微观凸起位置的材料优先去除，表面粗精度降低。一定条件下抛光所能达到的粗糙度值取决于放电所形成的坑痕的深度，坑痕深度越小，粗糙度值越小。对于抛光开始阶段呈现出的粗糙度快速下降趋势，是因为在抛光的前5分钟，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，而凸起的位置电场强度大，因此放电通道更多地选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快，随着抛光时间的延长，样件凹凸不平的状态得到改善，放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱，因此粗糙度下降的速度减小。
如何提高等离子体的生成、控制和稳定性，以实现更高的抛光效率和质量，以及更低的能耗和成本。如何扩大等离子抛光技术的适用范围，以实现对更多种类、形状、尺寸的工件的抛光，以及对更多领域和行业的应用。如何解决等离子抛光技术的环境和安全问题，如如何减少废液的排放和处理，如何避免电磁干扰和噪音等。如何提高等离子抛光技术的智能化和自动化水平，以实现对抛光过程的实时监测、调节和优化，以及对抛光结果的评估和反馈。如何加强等离子抛光技术的理论和实验研究，以揭示等离子抛光过程中发生的复杂的物理、化学、电化学、热力学等机理，以及对工件表面性能的影响规律。
