在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。
等离子抛光技术革新了金属表面处理方式
传统金属表面处理方式往往需要借助各种设备，从机械切削、化学腐蚀到电化学处理等，过程繁琐，效率低下，且易产生环境污染。而近年来兴起的等离子抛光技术革新了金属表面处理方式，可以快速、地抛光金属表面，使其变得光滑，亮丽，达到理想的质感。等离子抛光技术是指利用离子放电原理，通过高能量的放电通道来抛光材料表面，从而实现金属表面微观整平。相比传统处理方式，等离子抛光技术适用于多种以上的金属材质，一台设备即可完成多种材质产品的抛光处理，省去了企业高昂的购机成本。此外，等离子抛光技术效率极高，一分钟即可抛光100多件产品，抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度(RMS)可达0.01微米，生产效率得到大幅提升。
等离子抛光技术采用高能量的等离子体进行表面处理，与传统的机械抛光和化学抛光相比，具有的特点。它可以在短时间内去除表面氧化层和污染物，实现快速的表面处理和修整。此外，等离子抛光技术还可以通过调节处理参数来实现不同材料的表面处理，具有很好的适应性。等离子抛光技术通过调节处理参数，可以实现对表面的高精度处理、能控制到微米级别。它可以去除表面微小的凹凸和不平整，并且可以对不同材料的表面进行不同的处理，实现精度高、质量优的表面处理效果。此外，等离子抛光技术还可以控制表面的粗糙度和形状，满足不同需求。
