SU8模具制备流程
1.后烘
将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）
2.显影
将硅片放入显影剂中，匀胶机公司，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）
3.清洗
将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。
4.检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案
日常维护
1、定期清理平行曝光机的载台，防止它们因积尘或灰尘而影响加工。
2、保持曝光机的表面清洁，匀胶机价格，防止灰尘和杂质进入设备内部。
微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。
光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶，通常由环氧树脂和光敏剂组成，它具有许多优点，使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择：
高分辨率：SU-8光刻胶具有出色的分辨率，苏州匀胶机，可以制备细致的微结构，匀胶机介绍，适合制作小尺寸线条和微细图案。
粘附性强：SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性，可以在不同材料上制备微结构。
厚度可调：SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度，适用于制备不同厚度的微结构。
化学稳定性：SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性，可以耐受许多溶剂和化学物质，适用于各种应用环境。
热稳定性：SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性，适用于需要高温处理的制备过程。
多层光刻：SU-8光刻胶可用于多层光刻制备，能够实现更复杂的微结构和器件。
应用广泛：SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。
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