微弧氧化电源-日照微弧氧化工艺-微弧氧化电源用途

微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜，这层保护膜 与基体结合力强、尺寸变化小，微弧氧化电源，耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善，在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线

微弧氧化技术都可以处理哪些材料？

现阶段，微弧氧化技术处理的材料为镁、铝、钛及其合金，另外钽、铌、锆、铍等材料表面也可以直接进行微弧氧化。我公司能够在以上金属表面进行相关性能的微弧氧化膜层制备。此外，实验微弧氧化电源，其它一些材料如不锈钢也有文献报道可进行微弧氧化处理，但是需行表面处理，如在其表面进行热浸镀铝然后进行微弧氧化。对于这类材料，前期处理极为关键，将直接关系后期膜层的性能。

微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，100kw微弧氧化电源，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，微弧氧化电源用途，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。