微弧氧化工艺
微弧氧化工艺技术是直接在有色金属表面原位生成陶瓷层的新技术。微弧氧化工艺技术工艺简单，对环境污染小，具备很大的性，它制备的膜层特点鲜明，膜层与基体金属属于冶金结合，结合牢固，微弧氧化电源，在制备涂层方面具有明显优势，微弧氧化电源原理，微弧氧化技术已被广泛应用于Al、Ti 和Mg等金属行业，是一种很有前景的表面处理工艺。
！！五一期间，经精心工艺设计，圆满完成了超大钛合金工件的微弧氧化。该超大钛合金工件为钛合金材质，长度3.2米 ，直径1.1米，销售微弧氧化电源，重量 1.5吨，结构复杂，微弧氧化的难度较大，技术人员牺牲了休息时间，刻苦攻关，小型微弧氧化电源，终于实现了小功率电源做超大件微弧氧化的新突破。微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化应用、微弧氧化生产线、微弧氧化技术优势
相比MoO3，加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳，在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍，比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。
此外，这2种添加剂的加入，均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层，起显色作用的物质是MoO2。
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