用正交试验法，对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标，以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计，并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察；利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。
结果表明：影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；
影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；
采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为：正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。
1温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10-90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，htc微弧氧化技术，会形成水气。一般建议在20-60度。由于微弧氧化以热能形式释放，微弧氧化技术，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。
2.时间对微弧氧化的影响
微弧氧化时间一般控制在10~60min。氧化时间越长，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。
3.阴极材料
阴极材料可选用不锈钢，碳钢，镍等，可将上述材料悬挂使用或做成阴极槽体。
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.后处理对微弧氧化的影响
微弧氧化过后，微弧氧化技术 参数，工件可不经过任何处理直接使用，也可进行封闭，电泳，抛光等后续处理。折叠
在硅酸盐体系中分别添加三氧化钼和钼酸钠，对AZ91D镁合金进行微弧氧化处理，对比研究钼质量浓度相同的三氧化钼和钼酸钠对微弧氧化膜耐蚀性的影响。通过TT260涂层测厚仪、SEM和XRD分别检测膜层厚度、表面形貌和物相组成。采用点滴和电化学实验研究膜层的耐蚀性。
结果表明：电解液中加入钼质量浓度相同的MoO3和Na2MoO4后，表面微弧氧化技术，膜层点滴耐蚀性均有所降低，但电化学耐蚀性均增加，且二者添加量均为少时膜层耐蚀性更佳。
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