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企业资质

沈阳东创贵金属材料有限公司

金牌会员4
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企业等级:金牌会员
经营模式:生产加工
所在地区:辽宁 沈阳
联系卖家:赵总
手机号码:13898123309
公司官网:www.dcgjs.cn
企业地址:沈阳市沈河区文化东路89号
本企业已通过工商资料核验!
企业概况

沈阳东创***材料有限公司是东北大学科技产业集团有限公司下属的国有全资企业,始创于1973年,是国内***行业的企业之一。公司主要经营稀***回收、提纯、加工;金属靶材及零部件、纪念章、饰品加工;矿山工程设计,机械设备安装、调试;金属材料批发、零售;自营和代理各类商品和技术的进出口。公司主要产品已形......

贵金属靶材价格-内蒙贵金属靶材-沈阳东创【】(查看)

产品编号:100112834629                    更新时间:2025-04-06
价格: 来电议定
沈阳东创贵金属材料有限公司

沈阳东创贵金属材料有限公司

  • 主营业务:***材料
  • 公司官网:www.dcgjs.cn
  • 公司地址:沈阳市沈河区文化东路89号

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赵总 13898123309

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产品详情

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在使用电子照相方法的打印技术中,已经渐进实现高速打印操作、高质量图像形成、彩色像形成、以及成像装置小型化,并且变得很普遍。色粉一直是这些改进的关键。为满足上述需要,必须形成精细分配的色粉颗粒,内蒙贵金属靶材,使得色粉颗粒的直径均一,并且使得色粉颗粒呈球形。至于形成精细分配的色粉颗粒的技术,近已经开发出直径不超过10nm的色粉和不超过5pm的色粉。至于使色粉呈球形的技术,已经开发出球形度99%以上的色粉。



在所有应用产业中,半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出来.而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒,这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素。另外,薄膜的纯度与靶材的纯度关系极大,过99.995%(4N5)纯度的铜靶,或许能够满足半导体厂商0.35pm工艺的需求,但是却无法满足如今0.25um的工艺要求。



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